
小型氧化亞硅氣相沉積實(shí)驗(yàn)真空爐
分類:
- 產(chǎn)品描述
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- 商品名稱: 小型氧化亞硅氣相沉積實(shí)驗(yàn)真空爐
- 商品編號(hào): 1096144086734884864
應(yīng)用領(lǐng)域:動(dòng)力電池負(fù)極材料(氧化亞硅等可氣相沉積材料)
1.產(chǎn)品名稱:小型氧化亞硅氣象沉積真空爐2.應(yīng)用領(lǐng)域:動(dòng)力電池負(fù)極材料(氧化亞硅等可氣相沉積材料)型號(hào)
裝料尺寸
裝載量
工作溫度
極限溫度
真空度
總功率
氣氛類別
工序時(shí)長(zhǎng)
MGB15-85HH
Φ150 * 850
0.12M3
1350°C
1600℃
0.1* 0.5pa
35KW
Ar/N2
16H/爐
3. 工藝特點(diǎn):三溫區(qū)設(shè)計(jì),陶瓷內(nèi)膽,溫差控制精度3°C,高溫高真空;具備脫水、混煉反應(yīng)、提純等工藝能力。反應(yīng)充分,成品率高(約70-80%)------------------真空爐是一種在加工過(guò)程中將爐內(nèi)產(chǎn)品置于真空環(huán)境中的爐。由于沒(méi)有空氣或其他氣體,因此可以防止氧化,防止產(chǎn)品因?qū)α鞫鴵p失熱量,并消除污染源。
真空爐結(jié)構(gòu)
真空爐是指在爐室特定的空間內(nèi),利用真空系統(tǒng)(由真空泵、真空測(cè)量裝置、真空閥門等組成)抽除爐室內(nèi)的空氣,使?fàn)t室內(nèi)的壓強(qiáng)小于一個(gè)標(biāo)準(zhǔn)大氣壓,爐室內(nèi)的空間實(shí)現(xiàn)真空,然后對(duì)工件進(jìn)行加熱。真空爐由爐體、真空系統(tǒng)、加熱元件、控溫系統(tǒng)、熱工儀表等部件組成。爐體通常采用不銹鋼或其他合金材料,具有較強(qiáng)的抗腐蝕性和耐高溫性。真空系統(tǒng)主要由機(jī)械泵、分子泵、渦流泵、真空閥門等組成,可達(dá)到較高的真空度。加熱元件一般采用電阻絲、石墨等材料,可對(duì)樣品進(jìn)行快速、均勻的高溫加熱。控溫系統(tǒng)主要由溫度計(jì)、控制器、電源等組成,可實(shí)現(xiàn)對(duì)加熱過(guò)程的精確控制。
真空爐腔
真空爐爐腔主要分為不銹鋼爐腔、陶瓷纖維爐腔、鉬箔爐腔、石墨爐腔,最高溫度范圍為750℃至2200℃。
真空爐加熱元件
真空爐加熱元件主要分為電阻絲、硅碳棒、鉬絲棒、硅鉬棒、石墨、感應(yīng)線圈等,最高溫度范圍為750℃~2200℃。
溫控系統(tǒng)
真空爐溫控系統(tǒng)主要由熱電偶(測(cè)溫)和溫控儀(控溫)組成,主要分為PID可編程控制、觸摸屏控制、PLC全自動(dòng)控制。
真空系統(tǒng)
真空系統(tǒng)根據(jù)所需真空度由真空閥門、機(jī)械泵、擴(kuò)散泵、羅茨泵等組成,最高真空度一般為7×10-3Pa。
水冷系統(tǒng)
根據(jù)爐室的大小,需要配套的水冷系統(tǒng),以保證真空爐能正常工作。
密封爐殼
爐殼必須密封良好,以保證達(dá)到設(shè)計(jì)的真空度。
真空爐工作原理
真空爐的簡(jiǎn)單工作原理是通過(guò)真空系統(tǒng)對(duì)爐腔進(jìn)行抽氣,使?fàn)t腔達(dá)到真空狀態(tài),然后加熱元件進(jìn)行加熱,溫控系統(tǒng)控制加熱速度和保溫時(shí)間,使材料在真空狀態(tài)下進(jìn)行加熱。
真空爐的主要功能是對(duì)材料進(jìn)行熱處理,包括退火、時(shí)效、淬火、固溶處理等處理方式。此外,真空爐還可以用于高溫?zé)Y(jié)、高溫蒸發(fā)、高溫熔煉、高溫碳化等工藝。
真空爐在許多行業(yè)中有著廣泛的應(yīng)用。以下是一些最常見(jiàn)的應(yīng)用:
真空爐通常用于熱處理金屬、合金和陶瓷等材料,以提高其強(qiáng)度、硬度和其他性能。
真空爐可用于釬焊,這是一種使用熔點(diǎn)低于母材的填充材料將兩個(gè)金屬部件連接在一起的過(guò)程。
真空爐可用于燒結(jié),燒結(jié)是加熱粉末材料形成固體的過(guò)程。
真空爐可用于化學(xué)氣相沉積 (CVD) 和物理氣相沉積 (PVD) 涂層,涉及將材料薄膜沉積到基材上。
真空爐可用于退火,即將材料加熱到特定溫度并保持一段時(shí)間以釋放應(yīng)力并提高其延展性。
真空爐可用于金屬注射成型 (MIM) 部件的脫脂和燒結(jié),這些部件用于醫(yī)療設(shè)備、航空航天、汽車和電子等各種應(yīng)用。
真空爐可用于各種材料的晶體生長(zhǎng),例如半導(dǎo)體和光學(xué)晶體。
總體而言,真空爐應(yīng)用于航空航天、汽車、醫(yī)療、能源、電子和研發(fā)等許多行業(yè)。
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