100公斤硅基負(fù)極氣相沉積量產(chǎn)真空爐

分類：

設(shè)備名稱: 100kg級硅基負(fù)極氣相沉積真空爐

應(yīng)用領(lǐng)域: 氧化亞硅預(yù)鎂量產(chǎn)爐

產(chǎn)能: 24小時120公斤每爐
工藝描述: 二氧化硅及單質(zhì)硅歸中反應(yīng)、氣相沉積

型號	裝料尺寸	裝載量	工作溫度	極限溫度	真空度	總功率	氣氛類別	工藝時長	設(shè)備重量
MGB140-130VH	500x5001200	0.24p	1400c	1500c	0.5-2.5Pa	145KW	Ar/N2	24H	6.5T

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100公斤氧化亞硅氣相沉積量產(chǎn)真空爐適用于大規(guī)模生產(chǎn)氣相沉積材料，如氧化硅;高精度溫差控制，高溫真空爐;具有高真空升華、反應(yīng)、脫脂、脫水、氣相沉積材料自動研磨刮除、爐內(nèi)收集等特殊工藝能力。

100公斤氧化亞硅氣相沉積量產(chǎn)真空爐設(shè)備特點(diǎn)：

物料量大，生產(chǎn)效率高。
全過程全封閉自動運(yùn)行，避免粉塵飛揚(yáng)，生產(chǎn)現(xiàn)場環(huán)境干凈整潔。
溫度控制在1500度以內(nèi)，加熱速度快?？稍谡婵諚l件下保持穩(wěn)定運(yùn)行。配備封閉式冷卻系統(tǒng)，內(nèi)循環(huán)用去離子水，不會造成設(shè)備管道結(jié)垢，內(nèi)循環(huán)水量損失小，外循環(huán)用自來水，自動補(bǔ)水，風(fēng)扇啟動散熱;散熱效果好，環(huán)保一體化，占地面積小等。設(shè)備由升華系統(tǒng)、收集系統(tǒng)、加熱系統(tǒng)、溫控系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、機(jī)械系統(tǒng)和冷卻系統(tǒng)組成。
內(nèi)外雙層水冷結(jié)構(gòu)，與冷卻水接觸部分采用304不銹鋼制成，有效防止?fàn)t體長期使用煤氣泄漏現(xiàn)象加熱區(qū)由感應(yīng)線圈、重剛玉、石墨硬氈和等靜壓石墨組成。收集區(qū)由310S不銹鋼和保溫層組成。

制造業(yè)為滿足這些需求而采取的策略在很大程度上依賴于真空工藝和設(shè)備，具體方式如下：

工藝開發(fā)——新材料、新產(chǎn)品和新應(yīng)用要求絕對的循環(huán)重復(fù)性、靈活性和控制力，因此設(shè)計(jì)師指定真空處理而不是其他熱處理方法。
工藝替代 – 舊工藝技術(shù)及其相關(guān)設(shè)備正在被真空設(shè)備取代。理由在于通過降低總體制造成本和/或通過節(jié)省材料和效率來降低單位成本。
工藝替代——產(chǎn)品性能需求迫使設(shè)計(jì)師將目光投向真空加工及其以相同或非常相似的成本提供優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品的能力。